Tip e carateristich di linee de rivestiment UV

Oct 03, 2025

Identifegad

I linie de produziun de rivestiment sun di attress fundamentai per el trattament de la superfiss del substrà, duperand metud fisich o chimich per una produziun de masa eficient. Sun duperà in del camp del eletronich, del automobil, del otega e di nœuf energie.

 

1. Linea de produziun de rivestiment a spruzzadura de magnetron vertical cuntinuu a semicondutur

Caratteristich: Funziunament cumpletament automatizà, suporta el monitoragg a distanza; alimentaziun automatich del cremagliera del pezz per una magiur eficienza de produziun; la prugetaziun de la strütüra mirada aumenta l’üs e la se traduss en una spruzzadura püsee uniforme; el sistèm de ionizaziun del substrà garantiss un’adesiun del film püsee fort.

Aplicaziun: duperà en celùl fotovoltaich, plach bipolar de celùl a carburant a idrogeno, veder conduttif ITO, schermi per automòbil e schedi de circuit ceràmich.

 

2. Linea de produziun de rivestiment a spruzzadura de magnetron urizuntal cuntinù de condensatur ceràmich

Caratteristich: Cuntrol cumpletament automatizà de un urdinaduur industrial; trasport automatico del cremagliera del pezz; strutura de destinaziun otimizà per el rivestiment de büs-a-büs; alta uniformità de spuzzament; el sistema de ionizaziun del substrat mejora la qualità del film.

Aplicaziun: duperà en condensatur de montagg superficial e en resistenz a film sottil-.

 

3. Linea de produziun de rivestiment a spruzzadura de magnetron cuntinuu urizuntal DPC

Caratteristiche: Produzion completament automatizada; 288 pezz a l’ora; el rivestiment a doppi lati -a garantiss l’uniformità; el camp magnetich otimizà aumenta travers l’effet de riempiment; mejiorada la condutività e l’eficienza de dissipaziun del calor.

Aplicaziun: duperà en dispusitif semicondutur cuma substrat ceràmich, condensatur ceràmich ​​e staffe ceràmich ​​LED.

studio
Invia dumanda